DHHF-1 熱絲等離子體薄膜沉積實驗裝置供應商【上海雙旭】
上海雙旭DHHF-1熱絲等離子體薄膜沉積實驗裝置
供應商：上海雙旭電子有限公司
上海雙旭電子有限公司是一家專注于真空鍍膜設備、等離子體技術與材料表面處理實驗設備的研發(fā)與生產(chǎn)商。其DHHF-1型熱絲等離子體化學氣相沉積（HFCVD）實驗裝置，主要用于實驗室規(guī)模的金剛石膜、碳納米材料及其他功能薄膜的制備與研究。
主要產(chǎn)品參數(shù)
- 型號：DHHF-1
- 沉積方式：熱絲輔助直流/射頻等離子體化學氣相沉積（HFCVD/PECVD）
- 真空腔體：不銹鋼結構，通常配備石英觀察窗
- 極限真空：≤6.67×10-4 Pa（取決于泵配置）
- 工作氣壓范圍：102 - 104 Pa（典型CVD工藝區(qū)間）
- 熱絲系統(tǒng)：鎢絲或鉭絲，最高加熱溫度可達2200℃以上，可多根排布
- 基片臺：通常具備加熱功能，溫度范圍室溫~800℃（可定制更高）
- 氣路系統(tǒng)：配備質量流量計（MFC），通常為2-4路反應氣體（如CH4, H2, Ar等）
- 電源系統(tǒng)：包含熱絲加熱電源、基片偏壓電源（直流或射頻）及等離子體激發(fā)電源
- 控制系統(tǒng)：采用PLC或單片機結合觸摸屏，實現(xiàn)真空、溫度、氣流與工藝過程的自動控制
- 典型應用：金剛石薄膜、類金剛石膜（DLC）、碳納米管、立方氮化硼等硬質薄膜的沉積實驗。
使用注意事項
- 安全操作：設備涉及高電壓、高溫及易燃易爆氣體（如氫氣、甲烷）。操作前必須接受培訓，嚴格遵守安全規(guī)程，確保接地良好，并配備氫氣泄漏報警器。
- 真空維護：定期檢查密封圈，保持清潔并涂抹真空脂。避免腔體暴露于大氣過久，防止內部部件氧化。
- 熱絲管理：熱絲在高溫下易脆化和升華。升溫與降溫需按照設定程序進行，避免急冷急熱。長期使用后需檢查并更換。
- 氣體使用：使用高純度氣體，管路需進行檢漏。工藝結束后，應先用惰性氣體（如Ar）充分沖洗氣路和腔體，再通入大氣，防止爆炸性混合物形成。
- 冷卻系統(tǒng)：確保熱絲電極、真空泵及擴散泵（若配備）的冷卻水暢通，水溫與流量符合要求，防止過熱損壞。
- 日常維護：定期清理腔體內壁沉積物，檢查電氣連接點是否松動，校準質量流量計和真空計。
- 工藝實驗：建議從標準工藝參數(shù)開始探索，詳細記錄每次實驗的氣壓、溫度、氣流比例、功率等參數(shù)，以便優(yōu)化重復性。
注：以上信息基于該型號設備的典型公開技術資料，具體參數(shù)與配置可能因客戶定制而有所不同。采購與使用時請務必以上海雙旭電子有限公司提供的官方最新技術文檔和操作手冊為準。 |
