DHDM系列 直流磁控濺射鍍膜裝置參數(shù)【上海雙旭】
上海雙旭DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置
產(chǎn)品參數(shù)
型號范圍：DHDM-XXX（根據(jù)腔體尺寸定制）
本底真空度：≤ 6.67×10-4 Pa (5×10-6 Torr)
工作真空度：0.1 Pa ~ 2.0 Pa (可調(diào))
濺射靶材：直流平面磁控靶，標準尺寸可選（如2英寸，4英寸等），材料兼容金屬、合金等導體
靶基距：可調(diào)范圍通常為 60mm ~ 120mm
直流電源：恒流/恒壓可調(diào)，功率范圍依型號而定（如 500W ~ 5kW），穩(wěn)定性 ≤ 1%
氣體流量控制：質(zhì)量流量計(MFC)控制Ar、O2、N2等氣體，精度 ±1% F.S.
基片臺：可旋轉(zhuǎn)/加熱（可選），溫度范圍：室溫 ~ 500℃（依配置）
腔體材料：不銹鋼，內(nèi)表面拋光
抽氣系統(tǒng)：分子泵組（或擴散泵組）與機械泵組合
控制系統(tǒng)：PLC或微機自動控制，具備手動/自動操作模式
使用注意事項
安全操作：設備為高電壓裝置，操作前必須確保接地良好，維護時斷開總電源并放電。
真空維護：保持腔體清潔，防止異物進入。定期檢查密封圈，更換老化部件，確保真空度達標。
靶材使用：避免靶材短路或過熱。更換靶材時需佩戴防護用具，防止污染靶面。
氣體安全：使用惰性氣體（如Ar）時保證通風，若使用反應氣體（如O2），需嚴格檢漏并配備安全防護設施。
冷卻系統(tǒng)：確保靶材和電源的冷卻水路暢通，水壓、水溫在額定范圍內(nèi)，防止過熱損壞。
電源規(guī)范：嚴禁超功率運行直流電源，啟停應遵循設備規(guī)定的順序，防止電弧放電損壞靶材。
日常檢查：定期檢查泵油、過濾器狀態(tài)，記錄運行參數(shù)，及時發(fā)現(xiàn)異常。 |
