DH-500JJC型 多靶磁控濺射鍍膜機(jī)參數(shù)【上海雙旭】
上海雙旭DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機(jī)
產(chǎn)品參數(shù)
型號(hào): DH-500JJC
濺射靶位: 多靶位設(shè)計(jì)（具體數(shù)量根據(jù)配置而定，通常為2-4個(gè)）
樣品臺(tái)尺寸: 直徑≤500mm
極限真空度: ≤6.67×10-5 Pa (5×10-7 Torr)
恢復(fù)真空時(shí)間: ≤20min (從大氣抽至6.67×10-3 Pa)
濺射電源: 中頻/直流磁控濺射電源，功率可調(diào)（具體功率范圍依配置）
氣體控制系統(tǒng): 質(zhì)量流量計(jì)控制，用于氬氣、氧氣、氮?dú)獾确磻?yīng)氣體
基片加熱溫度: 室溫 ~ 500℃（可調(diào)）
膜厚監(jiān)控: 可選配石英晶體膜厚監(jiān)測(cè)儀或光學(xué)膜厚監(jiān)控系統(tǒng)
控制系統(tǒng): PLC+觸摸屏自動(dòng)/手動(dòng)控制
設(shè)備尺寸及電源: 具體尺寸依整體配置，主電源通常為三相380V，50Hz
使用注意事項(xiàng)
安全操作: 設(shè)備為高真空系統(tǒng)，操作前必須熟悉所有安全規(guī)程。確保緊急停止按鈕功能正常。
真空維護(hù): 定期檢查真空泵油位及狀態(tài)，更換泵油。保持腔體清潔，防止污染。
靶材安裝: 安裝或更換靶材時(shí)，務(wù)必切斷電源和水源，佩戴防護(hù)用具，確保靶材與背板接觸良好。
氣體使用: 使用反應(yīng)氣體（如氧氣、氮?dú)猓⿻r(shí)，需嚴(yán)格控制比例與流量，防止劇烈反應(yīng)或爆炸風(fēng)險(xiǎn)。確保氣體管路無(wú)泄漏。
冷卻系統(tǒng): 濺射靶和真空泵通常需要水冷。開(kāi)機(jī)前必須確認(rèn)冷卻水循環(huán)正常，水壓、水溫在規(guī)定范圍內(nèi)。
電源規(guī)范: 濺射電源開(kāi)啟應(yīng)遵循階梯升壓原則，避免靶材中毒或異常放電。關(guān)閉后需充分放電再進(jìn)行操作。
日常維護(hù): 定期清潔觀察窗、腔室內(nèi)壁，檢查密封圈磨損情況并及時(shí)更換。記錄運(yùn)行數(shù)據(jù)，便于故障排查。
人員培訓(xùn): 操作人員必須經(jīng)過(guò)專業(yè)培訓(xùn)，了解設(shè)備原理、工藝流程及應(yīng)急處理措施后方可上機(jī)操作。 |
